俄罗斯打破封锁：自研350nm光刻机正式投入批量生产

快科技 9 月 13 日消息，据 frontierindia 报道，俄罗斯正将其首台自主研发的 350 纳米光刻机投入批量生产，首台 Progress STP-350 计划于 2026 年 12 月交付莫斯科 Mapper 公司。这标志着俄罗斯重建本土半导体设备产业的重要里程碑。

第二台机器计划交付给 Element 集团旗下的 Industry Solutions 公司。更值得关注的是，俄罗斯已在着手研发 130 纳米光刻技术，首台 350 纳米光刻机或将成为其更大规模半导体设备研发进程的开端。

泽列诺格勒纳米技术中心（ZNTC）与白俄罗斯公司 Planar 合作，开发了用于 350 纳米工艺节点半导体生产的新型系统。尽管 350 纳米工艺不如当前先进制程，但它对工业电子、功率器件、汽车零部件和专用传感器仍至关重要。

计划于 12 月交付的设备，目的不仅是新增一台工厂设备，更在于表明俄罗斯已完成从实验室研发到光刻系统批量生产的过渡。

Mapper 是首家客户，隶属于俄罗斯国家技术集团公司（Rostec），并通过 Shvabe 控股公司与该公司关联。Element 集团旗下 Industry Solutions 计划接收第二套量产系统。两套系统将分别整合到与俄罗斯国内微电子生态系统相关的企业中。

Progress STP-350 是一款投影式步进光刻机，可将光掩模上的图案转移到半导体衬底上。其曝光区域尺寸为 22 毫米 x 22 毫米，工艺分辨率为 350 纳米。该设备更适合成熟节点半导体制造，而非尖端逻辑器件生产，因为它能够处理直径达 200 毫米的晶圆。

俄罗斯宣布，下一代国产光刻系统预计将于 2027 年投入使用，该系统能够生产 130 纳米芯片。从 350 纳米过渡到 130 纳米，将大幅扩展俄罗斯国内可开发的半导体应用范围。

【本文结束】如需转载请务必注明出处：快科技

责任编辑：鹿角